VeTek Semiconductor se especializa en la producción de productos de recubrimiento de carburo de silicio ultrapuro; estos recubrimientos están diseñados para aplicarse a grafito purificado, cerámica y componentes metálicos refractarios.
Nuestros recubrimientos de alta pureza están destinados principalmente a su uso en las industrias de semiconductores y electrónica. Sirven como capa protectora para portadores de obleas, susceptores y elementos calefactores, protegiéndolos de los entornos corrosivos y reactivos que se encuentran en procesos como MOCVD y EPI. Estos procesos son parte integral del procesamiento de obleas y la fabricación de dispositivos. Además, nuestros recubrimientos son adecuados para aplicaciones en hornos de vacío y calentamiento de muestras, donde se encuentran ambientes de alto vacío, reactivos y oxígeno.
En VeTek Semiconductor, ofrecemos una solución integral con nuestras capacidades avanzadas de taller mecánico. Esto nos permite fabricar los componentes base utilizando grafito, cerámica o metales refractarios y aplicar los recubrimientos cerámicos de SiC o TaC internamente. También brindamos servicios de recubrimiento para piezas suministradas por el cliente, lo que garantiza flexibilidad para satisfacer diversas necesidades.
Nuestros productos de recubrimiento de carburo de silicio se utilizan ampliamente en epitaxia de Si, epitaxia de SiC, sistema MOCVD, proceso RTP/RTA, proceso de grabado, proceso de grabado ICP/PSS, proceso de varios tipos de LED, incluidos LED azul y verde, LED UV y UV profundo. LED, etc., que se adapta a equipos de LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI, etc.
Propiedades físicas básicas del recubrimiento CVD SiC. | |
Propiedad | Valor típico |
Estructura cristalina | FCC fase β policristalina, principalmente orientada (111) |
Densidad | 3,21 g/cm³ |
Dureza | Dureza Vickers 2500 (carga de 500 g) |
Tamaño del grano | 2~10μm |
Pureza química | 99,99995% |
Capacidad calorífica | 640 J·kg-1·K-1 |
Temperatura de sublimación | 2700 ℃ |
Resistencia a la flexión | 415 MPa RT de 4 puntos |
Módulo de Young | Curva de 430 Gpa 4 puntos, 1300 ℃ |
Conductividad térmica | 300W·m-1·K-1 |
Expansión Térmica (CTE) | 4,5×10-6K-1 |
VeTek Semiconductor es un fabricante líder, innovador y líder de recubrimiento CVD SiC y recubrimiento TAC en China. Durante muchos años, nos hemos centrado en varios productos de recubrimiento CVD SiC, como faldón recubierto CVD SiC, anillo de recubrimiento CVD SiC, portador de recubrimiento CVD SiC, etc. VeTek Semiconductor brinda servicios de productos personalizados y precios de productos satisfactorios, y espera con ansias su colaboración. consulta.
Leer másEnviar ConsultaComo fabricante y líder chino de productos semiconductores, VeTek Semiconductor se ha centrado en varios tipos de productos suceptores, como el susceptor Epi LED UV, el susceptor epitaxial LED UV profundo, el susceptor de recubrimiento SiC, el susceptor MOCVD, etc., durante muchos años. VeTek Semiconductor se compromete a proporcionar tecnología avanzada y soluciones de productos para la industria de semiconductores, y esperamos sinceramente convertirnos en su socio en China.
Leer másEnviar ConsultaEl deflector de revestimiento CVD SiC de Vetek Semiconductor se utiliza principalmente en Si Epitaxy. Generalmente se utiliza con cilindros de extensión de silicona. Combina la alta temperatura única y la estabilidad del deflector de revestimiento CVD SiC, que mejora en gran medida la distribución uniforme del flujo de aire en la fabricación de semiconductores. Creemos que nuestros productos pueden brindarle tecnología avanzada y soluciones de productos de alta calidad.
Leer másEnviar ConsultaEl cilindro de grafito CVD SiC de Vetek Semiconductor es fundamental en los equipos semiconductores, ya que sirve como escudo protector dentro de los reactores para proteger los componentes internos en entornos de alta temperatura y presión. Protege eficazmente contra productos químicos y calor extremo, preservando la integridad del equipo. Con una resistencia excepcional al desgaste y la corrosión, garantiza longevidad y estabilidad en entornos desafiantes. El uso de estas cubiertas mejora el rendimiento de los dispositivos semiconductores, prolonga la vida útil y mitiga los requisitos de mantenimiento y los riesgos de daños. Bienvenido a consultarnos.
Leer másEnviar ConsultaLas boquillas de recubrimiento CVD SiC de Vetek Semiconductor son componentes cruciales utilizados en el proceso de epitaxia LPE SiC para depositar materiales de carburo de silicio durante la fabricación de semiconductores. Estas boquillas suelen estar hechas de material de carburo de silicio químicamente estable y de alta temperatura para garantizar la estabilidad en entornos de procesamiento hostiles. Diseñados para una deposición uniforme, desempeñan un papel clave en el control de la calidad y la uniformidad de las capas epitaxiales cultivadas en aplicaciones de semiconductores. Esperamos establecer una cooperación a largo plazo con usted.
Leer másEnviar ConsultaVetek Semiconductor proporciona un protector de revestimiento de SiC CVD utilizado como epitaxia de SiC LPE. El término "LPE" generalmente se refiere a epitaxia de baja presión (LPE) en deposición química de vapor a baja presión (LPCVD). En la fabricación de semiconductores, LPE es una tecnología de proceso importante para el cultivo de películas delgadas de cristal único, que a menudo se utiliza para cultivar capas epitaxiales de silicio u otras capas epitaxiales de semiconductores. No dude en contactarnos si tiene más preguntas.
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