El cilindro de grafito CVD SiC de Vetek Semiconductor es fundamental en los equipos semiconductores, ya que sirve como escudo protector dentro de los reactores para proteger los componentes internos en entornos de alta temperatura y presión. Protege eficazmente contra productos químicos y calor extremo, preservando la integridad del equipo. Con una resistencia excepcional al desgaste y la corrosión, garantiza longevidad y estabilidad en entornos desafiantes. El uso de estas cubiertas mejora el rendimiento de los dispositivos semiconductores, prolonga la vida útil y mitiga los requisitos de mantenimiento y los riesgos de daños. Bienvenido a consultarnos.
El cilindro de grafito CVD SiC de Vetek Semiconductor desempeña un papel importante en los equipos semiconductores. Generalmente se usa como cubierta protectora dentro del reactor para brindar protección a los componentes internos del reactor en ambientes de alta temperatura y alta presión. Esta cubierta protectora puede aislar eficazmente los productos químicos y las altas temperaturas en el reactor, evitando que causen daños al equipo. Al mismo tiempo, el cilindro de grafito CVD SiC también tiene una excelente resistencia al desgaste y a la corrosión, lo que le permite mantener la estabilidad y la durabilidad a largo plazo en entornos de trabajo hostiles. Mediante el uso de cubiertas protectoras fabricadas con este material se puede mejorar el rendimiento y la confiabilidad de los dispositivos semiconductores, extendiendo la vida útil del dispositivo y reduciendo las necesidades de mantenimiento y el riesgo de daños.
El cilindro de grafito CVD SiC tiene una amplia gama de aplicaciones en equipos semiconductores, que incluyen, entre otros, los siguientes aspectos:
Equipo de tratamiento térmico: el cilindro de grafito CVD SiC se puede utilizar como cubierta protectora o escudo térmico en equipos de tratamiento térmico para proteger los componentes internos de las altas temperaturas y al mismo tiempo proporcionar una excelente resistencia a las altas temperaturas.
Reactor de deposición química de vapor (CVD): en el reactor CVD, el cilindro de grafito CVD SiC se puede utilizar como cubierta protectora para la cámara de reacción química, aislando eficazmente la sustancia de reacción y proporcionando resistencia a la corrosión.
Aplicaciones en entornos corrosivos: debido a su excelente resistencia a la corrosión, el cilindro de grafito CVD SiC se puede utilizar en entornos químicamente corroídos, como entornos con gases o líquidos corrosivos durante la fabricación de semiconductores.
Equipos de crecimiento de semiconductores: cubiertas protectoras u otros componentes utilizados en equipos de crecimiento de semiconductores para proteger los equipos de altas temperaturas, corrosión química y desgaste para garantizar la estabilidad y confiabilidad a largo plazo del equipo.
Estabilidad a altas temperaturas, resistencia a la corrosión, excelentes propiedades mecánicas, conductividad térmica. Con este excelente rendimiento, ayuda a disipar el calor de manera más eficiente en dispositivos semiconductores, manteniendo la estabilidad y el rendimiento del dispositivo.
Propiedades físicas básicas del recubrimiento CVD SiC. | |
Propiedad | Valor típico |
Estructura cristalina | FCC fase β policristalina, principalmente orientada (111) |
Densidad | 3,21 g/cm³ |
Dureza | Dureza Vickers 2500 (carga de 500 g) |
Tamaño del grano | 2~10μm |
Pureza química | 99,99995% |
Capacidad calorífica | 640 J·kg-1·K-1 |
Temperatura de sublimación | 2700 ℃ |
Resistencia a la flexión | 415 MPa RT de 4 puntos |
Módulo de Young | Curva de 430 Gpa 4 puntos, 1300 ℃ |
Conductividad térmica | 300W·m-1·K-1 |
Expansión Térmica (CTE) | 4,5×10-6K-1 |