China Recubrimiento de carburo de silicio Fabricante, proveedor, fábrica

VeTek Semiconductor se especializa en la producción de productos de recubrimiento de carburo de silicio ultrapuro; estos recubrimientos están diseñados para aplicarse a grafito purificado, cerámica y componentes metálicos refractarios.

Nuestros recubrimientos de alta pureza están destinados principalmente a su uso en las industrias de semiconductores y electrónica. Sirven como capa protectora para portadores de obleas, susceptores y elementos calefactores, protegiéndolos de los entornos corrosivos y reactivos que se encuentran en procesos como MOCVD y EPI. Estos procesos son parte integral del procesamiento de obleas y la fabricación de dispositivos. Además, nuestros recubrimientos son adecuados para aplicaciones en hornos de vacío y calentamiento de muestras, donde se encuentran ambientes de alto vacío, reactivos y oxígeno.

En VeTek Semiconductor, ofrecemos una solución integral con nuestras capacidades avanzadas de taller mecánico. Esto nos permite fabricar los componentes base utilizando grafito, cerámica o metales refractarios y aplicar los recubrimientos cerámicos de SiC o TaC internamente. También brindamos servicios de recubrimiento para piezas suministradas por el cliente, lo que garantiza flexibilidad para satisfacer diversas necesidades.

Nuestros productos de recubrimiento de carburo de silicio se utilizan ampliamente en epitaxia de Si, epitaxia de SiC, sistema MOCVD, proceso RTP/RTA, proceso de grabado, proceso de grabado ICP/PSS, proceso de varios tipos de LED, incluidos LED azul y verde, LED UV y UV profundo. LED, etc., que se adapta a equipos de LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI, etc.

Piezas del reactor que podemos hacer:

Recubrimiento de carburo de silicio varias ventajas únicas:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

Parámetro del recubrimiento de carburo de silicio semiconductor VeTek:

Propiedades físicas básicas del recubrimiento CVD SiC.
Propiedad	Valor típico
Estructura cristalina	FCC fase β policristalina, principalmente orientada (111)
Densidad	3,21 g/cm³
Dureza	Dureza Vickers 2500 (carga de 500 g)
Tamaño del grano	2~10μm
Pureza química	99,99995%
Capacidad calorífica	640 J·kg-1·K-1
Temperatura de sublimación	2700 ℃
Resistencia a la flexión	415 MPa RT de 4 puntos
Módulo de Young	Curva de 430 Gpa 4 puntos, 1300 ℃
Conductividad térmica	300W·m-1·K-1
Expansión Térmica (CTE)	4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

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Pieza de sellado de SiC

Como fabricante y fábrica avanzados de productos de piezas de sellado de SiC en China. La pieza de sellado VeTek Semiconducto SiC es un componente de sellado de alto rendimiento ampliamente utilizado en el procesamiento de semiconductores y otros procesos de temperaturas y presiones extremadamente altas. Bienvenido a su consulta adicional.

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Mandril de oblea de carburo de silicio

Como fabricante y proveedor líder de productos de portabrocas de carburo de silicio en China, el portabrocas de carburo de silicio de VeTek Semiconductor desempeña un papel insustituible en el proceso de crecimiento epitaxial con su excelente resistencia a altas temperaturas, resistencia a la corrosión química y resistencia al choque térmico. Bienvenido a su consulta adicional.

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Cabezal de ducha de carburo de silicio

VeTek Semiconductor es un fabricante y proveedor líder de productos de cabezales de ducha de carburo de silicio en China. El cabezal de ducha de SiC tiene una excelente tolerancia a altas temperaturas, estabilidad química, conductividad térmica y buen rendimiento de distribución de gas, lo que puede lograr una distribución uniforme del gas y mejorar la calidad de la película. Por lo tanto, se suele utilizar en procesos de alta temperatura como los procesos de deposición química de vapor (CVD) o deposición física de vapor (PVD). Bienvenido a su consulta adicional.

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Anillo de sello de carburo de silicio

Como fabricante y fábrica profesional de anillos de sello de carburo de silicio en China, el anillo de sello de carburo de silicio semiconductor VeTek se usa ampliamente en equipos de procesamiento de semiconductores debido a su excelente resistencia al calor, resistencia a la corrosión, resistencia mecánica y conductividad térmica. Es especialmente adecuado para procesos que involucran altas temperaturas y gases reactivos como CVD, PVD y grabado por plasma, y es una elección de material clave en el proceso de fabricación de semiconductores. Sus consultas adicionales son bienvenidas.

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Soporte para oblea recubierto de SiC

VeTek Semiconductor es un fabricante profesional y líder de productos de soportes para obleas recubiertos de SiC en China. El soporte para obleas recubierto de SiC es un soporte para obleas para el proceso de epitaxia en el procesamiento de semiconductores. Es un dispositivo insustituible que estabiliza la oblea y asegura el crecimiento uniforme de la capa epitaxial. Bienvenido a su consulta adicional.

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Soporte para oblea Epi

VeTek Semiconductor es un fabricante y fábrica profesional de soportes para obleas Epi en China. Epi Wafer Holder es un soporte para obleas para el proceso de epitaxia en el procesamiento de semiconductores. Es una herramienta clave para estabilizar la oblea y garantizar un crecimiento uniforme de la capa epitaxial. Se utiliza ampliamente en equipos de epitaxia como MOCVD y LPCVD. Es un dispositivo insustituible en el proceso de epitaxia. Bienvenido a su consulta adicional.

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Como fabricante y proveedor profesional Recubrimiento de carburo de silicio en China, tenemos nuestra propia fábrica. Si necesita servicios personalizados para satisfacer las necesidades específicas de su región o desea comprar Recubrimiento de carburo de silicio avanzado y duradero fabricado en China, puede dejarnos un mensaje.