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China Horno de oxidación y difusión Fabricante, proveedor, fábrica

Los hornos de oxidación y difusión se utilizan en diversos campos, como dispositivos semiconductores, dispositivos discretos, dispositivos optoelectrónicos, dispositivos electrónicos de potencia, células solares y fabricación de circuitos integrados a gran escala. Se utilizan para procesos que incluyen difusión, oxidación, recocido, aleación y sinterización de obleas.


VeTek Semiconductor es un fabricante líder especializado en la producción de componentes de grafito, carburo de silicio y cuarzo de alta pureza en hornos de oxidación y difusión. Estamos comprometidos a proporcionar componentes de hornos de alta calidad para las industrias fotovoltaica y de semiconductores, y estamos a la vanguardia de la tecnología de recubrimiento de superficies, como CVD-SiC, CVD-TaC, pirocarbono, etc.


Las ventajas de los componentes de carburo de silicio de VeTek Semiconductor:

Resistencia a altas temperaturas (hasta 1600 ℃)

Excelente conductividad térmica y estabilidad térmica.

Buena resistencia a la corrosión química

Bajo coeficiente de expansión térmica.

Alta resistencia y dureza

Larga vida útil


En los hornos de oxidación y difusión, debido a la presencia de altas temperaturas y gases corrosivos, muchos componentes requieren el uso de materiales resistentes a la corrosión y a altas temperaturas, entre los cuales el carburo de silicio (SiC) es una opción comúnmente utilizada. Los siguientes son componentes comunes de carburo de silicio que se encuentran en hornos de oxidación y hornos de difusión:


Barco de oblea

El barco de oblea de carburo de silicio es un recipiente que se utiliza para transportar obleas de silicio, que puede soportar altas temperaturas y no reacciona con las obleas de silicio.

Tubo de horno

El tubo del horno es el componente central del horno de difusión y se utiliza para acomodar obleas de silicio y controlar el entorno de reacción. Los tubos de horno de carburo de silicio tienen un excelente rendimiento de resistencia a la corrosión y a altas temperaturas.

Placa deflectora

Se utiliza para regular el flujo de aire y la distribución de temperatura dentro del horno.

Tubo de protección de termopar

Se utiliza para proteger los termopares de medición de temperatura del contacto directo con gases corrosivos.

Paleta voladiza

Las paletas en voladizo de carburo de silicio son resistentes a las altas temperaturas y a la corrosión, y se utilizan para transportar botes de silicio o botes de cuarzo que transportan obleas de silicio a los tubos del horno de difusión.

Inyector de gas

Se utiliza para introducir gas de reacción en el horno y debe ser resistente a altas temperaturas y corrosión.

Portador de barcos

El portaobleas de carburo de silicio se utiliza para fijar y soportar obleas de silicio, que tienen ventajas como alta resistencia, resistencia a la corrosión y buena estabilidad estructural.

Puerta del horno

También se pueden utilizar revestimientos o componentes de carburo de silicio en el interior de la puerta del horno.

Elemento de calefacción

Los elementos calefactores de carburo de silicio son adecuados para altas temperaturas, alta potencia y pueden elevar rápidamente las temperaturas a más de 1000 ℃.

Revestimiento de SiC

Utilizado para proteger la pared interior de los tubos del horno, puede ayudar a reducir la pérdida de energía térmica y soportar entornos hostiles como altas temperaturas y altas presiones.


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Paleta voladiza de SiC de alta pureza

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Como fabricante y proveedor profesional de Pedestal y oblea de columna vertical en China, el Pedestal y oblea de columna vertical de Vetek Semiconductor está hecho de materiales cerámicos de cuarzo o silicio (SiC) de alta pureza, con excelente resistencia a altas temperaturas, estabilidad química y resistencia mecánica. , y es un componente central indispensable en el proceso de fabricación de semiconductores. Bienvenido a su consulta adicional.

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Barco de oblea contiguo

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Barco de oblea de SiC

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El SiC Wafer Boat de VeTek Semiconductor es un producto de muy alto rendimiento. Nuestro SiC Wafer Boat se utiliza generalmente en hornos de difusión y oxidación de semiconductores para garantizar que la temperatura se distribuya uniformemente en la oblea y mejorar la calidad del procesamiento de la oblea de silicio. La estabilidad a alta temperatura y la alta conductividad térmica de los materiales de SiC garantizan un procesamiento de semiconductores eficiente y fiable. Estamos comprometidos a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos ser su socio a largo plazo en China.

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Tubo de proceso de SiC

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VeTek Semiconductor proporciona tubos de proceso de SiC de alto rendimiento para la fabricación de semiconductores. Nuestros tubos de proceso de SiC destacan en procesos de oxidación y difusión. Con calidad y mano de obra superiores, estos tubos ofrecen estabilidad a altas temperaturas y conductividad térmica para un procesamiento eficiente de semiconductores. Ofrecemos precios competitivos y buscamos ser su socio a largo plazo en China.

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Como fabricante y proveedor profesional Horno de oxidación y difusión en China, tenemos nuestra propia fábrica. Si necesita servicios personalizados para satisfacer las necesidades específicas de su región o desea comprar Horno de oxidación y difusión avanzado y duradero fabricado en China, puede dejarnos un mensaje.
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