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Mandril de oblea de carburo de silicio
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Mandril de oblea de carburo de silicio

Como fabricante y proveedor líder de productos de portabrocas de carburo de silicio en China, el portabrocas de carburo de silicio de VeTek Semiconductor desempeña un papel insustituible en el proceso de crecimiento epitaxial con su excelente resistencia a altas temperaturas, resistencia a la corrosión química y resistencia al choque térmico. Bienvenido a su consulta adicional.

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Descripción del Producto

El portabrocas de oblea de carburo de silicio VeTek Semiconductor utiliza las excelentes propiedades de los materiales de carburo de silicio para cumplir con los estrictos requisitos de la producción de semiconductores, especialmente en el procesamiento de semiconductores que requiere precisión y confiabilidad extremadamente altas.


En el proceso de procesamiento de semiconductores,Carburo de Siliciotiene una excelente resistencia a altas temperaturas (puede funcionar de manera estable hasta 1400 °C), baja conductividad (el SiC tiene una conductividad relativamente baja, típicamente 10 ^-3S/m) y bajo coeficiente de expansión térmica (aproximadamente 4,0 × 10^-6/°C), que es un material indispensable e importante, especialmente adecuado para la fabricación de Wafer Chuck de Carburo de Silicio.


durante elproceso de crecimiento epitaxial, se deposita una fina capa de material semiconductor sobre un sustrato, lo que requiere una estabilidad absoluta de la oblea para garantizar capas de deposición de película uniformes y de alta calidad. El mandril de vacío de SiC logra esto creando un vacío firme y consistente para evitar cualquier movimiento o deformación de la oblea.


El portabrocas de carburo de silicio también ofrece una excelente resistencia al choque térmico. Los cambios rápidos de temperatura son comunes en la fabricación de semiconductores y los materiales que no pueden soportar estas fluctuaciones pueden agrietarse, doblarse o fallar. El carburo de silicio tiene un bajo coeficiente de expansión térmica y puede mantener su forma y función incluso bajo cambios drásticos de temperatura, lo que garantiza que la oblea permanezca segura durante el proceso de epitaxia sin movimiento ni desalineación.


Además, elproceso de epitaxiaA menudo implica gases reactivos y otros productos químicos corrosivos. La inercia química del SiC Wafer Chuck garantiza que no se vea afectado por estos entornos hostiles, manteniendo su rendimiento y extendiendo su vida útil. Esta durabilidad química no solo reduce la frecuencia de reemplazo de Wafer Chuck, sino que también garantiza un rendimiento constante del producto durante múltiples ciclos de producción, lo que ayuda a mejorar la eficiencia general y la rentabilidad del proceso de fabricación de semiconductores.


VeTek Semiconductor es un fabricante y proveedor líder de productos de portabrocas de carburo de silicio en China. Podemos proporcionar varios tipos de productos Chuck, comoPortabrocas de cerámica porosa de SiC, Portabrocas de vacío de SiC poroso, Portabrocas de vacío de cerámica porosayMandril recubierto de TaC, etc. VeTek Semiconductor se compromete a proporcionar tecnología avanzada y soluciones de productos para la industria de semiconductores. Esperamos sinceramente convertirnos en su socio a largo plazo en China.

DATOS SEM DE ECVESTRUCTURA CRISTALINA DE PELÍCULA SIC

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE


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