China Proceso RTA/RTP Fabricante, proveedor, fábrica

VeTek Semiconductor proporciona un portador de obleas de proceso RTA/RTP, hecho de grafito de alta pureza y revestimiento de SiC conimpureza por debajo de 5 ppm.

El horno de recocido rápido es un tipo de equipo para el tratamiento de recocido de materiales yProceso RTA/RTP, al controlar el proceso de calentamiento y enfriamiento del material, puede mejorar la estructura cristalina del material, reducir la tensión interna y mejorar las propiedades mecánicas y físicas del material. Uno de los componentes centrales de la cámara del horno de recocido rápido es el portador de obleas/receptor de obleapara cargar obleas. Como calentador de obleas en la cámara de proceso, esteplaca portadoraJuega un papel importante en el tratamiento rápido de calentamiento y ecualización de temperatura.

El carburo de silicio, el nitruro de aluminio y el carburo de silicio grafito son materiales disponibles para el horno de recocido rápido, y la principal opción en el mercado es el grafito yrevestimiento de carburo de silicio como materiales. 

Los siguientes sonlas características y el excelente rendimientodel portador de obleas de proceso RTA RTP recubierto de SiC de VeTek Semiconductor:

-Estabilidad a altas temperaturas: El revestimiento de SiC exhibe una excelente estabilidad a altas temperaturas, lo que garantiza la integridad de la estructura y la resistencia mecánica incluso a temperaturas extremas. Esta capacidad lo hace muy adecuado para procesos de tratamiento térmico exigentes.

-Excelente conductividad térmica: La capa de revestimiento de SiC posee una conductividad térmica excepcional, lo que permite una distribución del calor rápida y uniforme. Esto se traduce en un procesamiento térmico más rápido, lo que reduce significativamente el tiempo de calentamiento y mejora la productividad general. Al mejorar la eficiencia de la transferencia de calor, se contribuye a una mayor eficiencia de producción y a una calidad superior del producto.

-Inercia química: La inercia química inherente del carburo de silicio proporciona una excelente resistencia a la corrosión de diversos productos químicos. Nuestro portador de obleas de carburo de silicio recubierto de carbono puede funcionar de manera confiable en diversos entornos químicos sin contaminar ni dañar las obleas.

-Planitud de la superficie: La capa de carburo de silicio CVD asegura una superficie muy plana y lisa, garantizando un contacto estable con las obleas durante el procesamiento térmico. Esto elimina la introducción de defectos superficiales adicionales, asegurando resultados de procesamiento óptimos.

-Ligero y de alta resistencia: Nuestro portador de oblea RTP recubierto de SiC es liviano pero posee una resistencia notable. Esta característica facilita la carga y descarga de obleas de forma cómoda y fiable.

Cómo utilizar el portador de obleas de proceso RTA RTP:

Receptor de oblea con revestimiento de SiC y cubierta del receptor de VeTek Semiconductor

Receptor RTA RTP Portador de oblea RTA RTP Bandeja RTP (para tratamiento de calentamiento rápido RTA) Bandeja RTP (para tratamiento de calentamiento rápido RTA) Receptor RTP Bandeja de soporte de oblea RTP