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Deposición física de vapor

Deposición física de vapor

La deposición física de vapor (PVD) de semiconductores Vetek es una tecnología de proceso avanzada ampliamente utilizada en el tratamiento de superficies y la preparación de películas delgadas. La tecnología PVD utiliza métodos físicos para transformar directamente materiales de sólidos o líquidos a gases y formar una película delgada en la superficie del sustrato objetivo. Esta tecnología tiene las ventajas de alta precisión, alta uniformidad y fuerte adhesión, y se usa ampliamente en semiconductores, dispositivos ópticos, recubrimientos de herramientas y recubrimientos decorativos. ¡Bienvenido a discutir con nosotros!

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Nanopolvo de fase MAX

Nanopolvo de fase MAX

El nanopolvo de fase Semiconductor MAX de Veteksemi ofrece propiedades térmicas y eléctricas excepcionales, ideales para aplicaciones avanzadas de electrónica y ciencia de materiales. Con una resistencia superior a la oxidación y estabilidad a altas temperaturas, el nanopolvo de Veteksemi es la solución perfecta para tecnologías de semiconductores innovadoras. Bienvenido a consultarnos.

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Condensador MLCC con tecnología de pulverización térmica

Condensador MLCC con tecnología de pulverización térmica

La tecnología de pulverización térmica de Vetek Semiconductor desempeña un papel extremadamente importante en la aplicación de recubrimiento de crisoles sinterizados para materiales de condensadores cerámicos multicapa (MLCC) de alta gama. Con la miniaturización continua y el alto rendimiento de los dispositivos electrónicos, la demanda de condensadores MLCC con tecnología de pulverización térmica también está creciendo rápidamente, especialmente en aplicaciones de alta gama. Para satisfacer esta demanda, los crisoles utilizados en el proceso de sinterización deben tener una excelente resistencia a altas temperaturas, resistencia a la corrosión y buena conductividad térmica, todo lo cual se puede lograr y mejorar mediante la tecnología de pulverización térmica. Esperamos poder establecer n......

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Brazo robótico para manipulación de obleas

Brazo robótico para manipulación de obleas

La tecnología de pulverización térmica de Vetek Semiconductor desempeña un papel vital en la aplicación de brazos robóticos de manipulación de obleas, especialmente en entornos de fabricación de semiconductores que requieren alta precisión y alta limpieza. Esta tecnología mejora significativamente la durabilidad, confiabilidad y eficiencia del trabajo del equipo al recubrir materiales especiales en la superficie del brazo robótico que manipula las obleas. Bienvenido a consultarnos.

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Tecnología de pulverización térmica de semiconductores.

Tecnología de pulverización térmica de semiconductores.

La tecnología de pulverización térmica de semiconductores de Vetek Semiconductor es un proceso avanzado que pulveriza materiales en estado fundido o semifundido sobre la superficie de un sustrato para formar un recubrimiento. Esta tecnología es ampliamente utilizada en el campo de la fabricación de semiconductores, utilizándose principalmente para crear recubrimientos con funciones específicas en la superficie del sustrato, como conductividad, aislamiento, resistencia a la corrosión y resistencia a la oxidación. Las principales ventajas de la tecnología de pulverización térmica incluyen alta eficiencia, espesor de recubrimiento controlable y buena adherencia del recubrimiento, lo que la hace particularmente importante en el proceso de fabricación de semiconductores que requiere alta precis......

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