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China Recubrimiento de carburo de silicio Fabricante, proveedor, fábrica
VeTek Semiconductor se especializa en la producción de productos de recubrimiento de carburo de silicio ultrapuro; estos recubrimientos están diseñados para aplicarse a grafito purificado, cerámica y componentes metálicos refractarios.
Nuestros recubrimientos de alta pureza están destinados principalmente a su uso en las industrias de semiconductores y electrónica. Sirven como capa protectora para portadores de obleas, susceptores y elementos calefactores, protegiéndolos de los entornos corrosivos y reactivos que se encuentran en procesos como MOCVD y EPI. Estos procesos son parte integral del procesamiento de obleas y la fabricación de dispositivos. Además, nuestros recubrimientos son adecuados para aplicaciones en hornos de vacío y calentamiento de muestras, donde se encuentran ambientes de alto vacío, reactivos y oxígeno.
En VeTek Semiconductor, ofrecemos una solución integral con nuestras capacidades avanzadas de taller mecánico. Esto nos permite fabricar los componentes base utilizando grafito, cerámica o metales refractarios y aplicar los recubrimientos cerámicos de SiC o TaC internamente. También brindamos servicios de recubrimiento para piezas suministradas por el cliente, lo que garantiza flexibilidad para satisfacer diversas necesidades.
Nuestros productos de recubrimiento de carburo de silicio se utilizan ampliamente en epitaxia de Si, epitaxia de SiC, sistema MOCVD, proceso RTP/RTA, proceso de grabado, proceso de grabado ICP/PSS, proceso de varios tipos de LED, incluidos LED azul y verde, LED UV y UV profundo. LED, etc., que se adapta a equipos de LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI, etc.
Piezas del reactor que podemos hacer:
Recubrimiento de carburo de silicio varias ventajas únicas:
Parámetro del recubrimiento de carburo de silicio semiconductor VeTek:
| Propiedades físicas básicas del recubrimiento CVD SiC. | |
| Propiedad | Valor típico |
| Estructura cristalina | FCC fase β policristalina, principalmente orientada (111) |
| Densidad | 3,21 g/cm³ |
| Dureza | Dureza Vickers 2500 (carga de 500 g) |
| Tamaño del grano | 2~10μm |
| Pureza química | 99,99995% |
| Capacidad calorífica | 640 J·kg-1·K-1 |
| Temperatura de sublimación | 2700 ℃ |
| Resistencia a la flexión | 415 MPa RT de 4 puntos |
| Módulo de Young | Curva de 430 Gpa 4 puntos, 1300 ℃ |
| Conductividad térmica | 300W·m-1·K-1 |
| Expansión Térmica (CTE) | 4,5×10-6K-1 |
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Soporte de barril de oblea recubierto de CVD SiC
El soporte del barril de oblea recubierta de CVD SiC es el componente clave del horno de crecimiento epitaxial, ampliamente utilizado en los hornos de crecimiento epitaxial MOCVD. VeTek Semiconductor le ofrece productos altamente personalizados. No importa cuáles sean sus necesidades para el soporte de barril de oblea recubierto de CVD SiC, bienvenido a consultarnos.
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Susceptor de barril de recubrimiento CVD SiC
El susceptor de barril con recubrimiento CVD SiC de VeTek Semiconductor es el componente central del horno epitaxial tipo barril. Con la ayuda del susceptor de barril con recubrimiento CVD SiC, la cantidad y calidad del crecimiento epitaxial mejoran enormemente. VeTek Semiconductor es un fabricante y proveedor profesional de recubrimiento de SiC Barrel Susceptor, y se encuentra en el nivel líder en China e incluso en el mundo. VeTek Semiconductor espera establecer una estrecha relación de cooperación con usted en la industria de los semiconductores.
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Susceptor Epi de oblea con revestimiento de SiC CVD
El susceptor Epi de la oblea de recubrimiento de SiC CVD de VeTek Semiconductor es un componente indispensable para el crecimiento de la epitaxia de SiC y ofrece una gestión térmica, resistencia química y estabilidad dimensional superiores. Al elegir el susceptor Epi de oblea de recubrimiento CVD SiC de VeTek Semiconductor, usted mejora el rendimiento de sus procesos MOCVD, lo que genera productos de mayor calidad y una mayor eficiencia en sus operaciones de fabricación de semiconductores. Bienvenido a sus consultas adicionales.
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Susceptor de grafito con revestimiento CVD SiC
El susceptor de grafito con recubrimiento CVD SiC de VeTek Semiconductor es uno de los componentes importantes en la industria de los semiconductores, como el crecimiento epitaxial y el procesamiento de obleas. Se utiliza en MOCVD y otros equipos para respaldar el procesamiento y manipulación de obleas y otros materiales de alta precisión. VeTek Semiconductor tiene las capacidades de producción y fabricación de susceptor de grafito recubierto de SiC y susceptor de grafito recubierto de TaC líderes en China, y espera su consulta.
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Elemento calefactor con revestimiento CVD SiC
El elemento calefactor con revestimiento CVD SiC desempeña un papel fundamental en el calentamiento de materiales en hornos PVD (deposición por evaporación). VeTek Semiconductor es un fabricante líder de elementos calefactores recubiertos de SiC CVD en China. Contamos con capacidades avanzadas de recubrimiento CVD y podemos ofrecerle productos de recubrimiento CVD SiC personalizados. VeTek Semiconductor espera convertirse en su socio en elementos calefactores recubiertos de SiC.
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Receptor giratorio de grafito
El susceptor giratorio de grafito de alta pureza desempeña un papel importante en el crecimiento epitaxial del nitruro de galio (proceso MOCVD). VeTek Semiconductor es un fabricante y proveedor líder de susceptores giratorios de grafito en China. Hemos desarrollado muchos productos de grafito de alta pureza basados en materiales de grafito de alta pureza, que cumplen plenamente con los requisitos de la industria de semiconductores. VeTek Semiconductor espera convertirse en su socio en el susceptor de grafito giratorio.
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Como fabricante y proveedor profesional Recubrimiento de carburo de silicio en China, tenemos nuestra propia fábrica. Si necesita servicios personalizados para satisfacer las necesidades específicas de su región o desea comprar Recubrimiento de carburo de silicio avanzado y duradero fabricado en China, puede dejarnos un mensaje.
