Deflector de revestimiento CVD SiC

Como fabricante profesional, nos gustaría ofrecerle alta calidad.Deflector de revestimiento CVD SiC.

A través del desarrollo continuo de innovación de procesos y materiales,Semiconductores Vetek'sDeflector de revestimiento CVD SiCTiene las características únicas de estabilidad a altas temperaturas, resistencia a la corrosión, alta dureza y resistencia al desgaste. Estas características únicas determinan que el deflector de recubrimiento CVD SiC desempeñe un papel importante en el proceso epitaxial, y su papel incluye principalmente los siguientes aspectos:

Distribución uniforme del flujo de aire.: El ingenioso diseño del deflector de revestimiento CVD SiC puede lograr una distribución uniforme del flujo de aire durante el proceso de epitaxia. El flujo de aire uniforme es esencial para el crecimiento uniforme y la mejora de la calidad de los materiales. El producto puede guiar eficazmente el flujo de aire, evitar un flujo de aire local excesivo o débil y garantizar la uniformidad de los materiales epitaxiales.

Controlar el proceso de epitaxia.: La posición y el diseño del deflector de revestimiento CVD SiC pueden controlar con precisión la dirección del flujo y la velocidad del flujo de aire durante el proceso de epitaxia. Al ajustar su diseño y forma, se puede lograr un control preciso del flujo de aire, optimizando así las condiciones de epitaxia y mejorando el rendimiento y la calidad de la epitaxia.

Reducir la pérdida de material: Un ajuste razonable del deflector de revestimiento CVD SiC puede reducir la pérdida de material durante el proceso de epitaxia. La distribución uniforme del flujo de aire puede reducir el estrés térmico causado por un calentamiento desigual, reducir el riesgo de rotura y daño del material y extender la vida útil de los materiales epitaxiales.

Mejorar la eficiencia de la epitaxia: El diseño del deflector de revestimiento CVD SiC puede optimizar la eficiencia de transmisión del flujo de aire y mejorar la eficiencia y estabilidad del proceso de epitaxia. Mediante el uso de este producto, se pueden maximizar las funciones del equipo epitaxial, se puede mejorar la eficiencia de la producción y se puede reducir el consumo de energía.

Propiedades físicas básicas deDeflector de revestimiento CVD SiC：

Taller de producción de recubrimientos CVD SiC:

Descripción general de la cadena de la industria de la epitaxia de chips semiconductores: