Paleta voladiza de SiC de alta pureza

La paleta voladiza de SiC de alta pureza es un componente clave utilizado en equipos de procesamiento de semiconductores. El producto está hecho de material de carburo de silicio (SiC) de alta pureza. Combinado con sus excelentes características de alta pureza, alta estabilidad térmica y resistencia a la corrosión, se usa ampliamente en procesos como transferencia de obleas, soporte y procesamiento a alta temperatura, brindando una garantía confiable para garantizar la precisión del proceso y la calidad del producto.

Generalmente, la paleta voladiza de SiC de alta pureza desempeña las siguientes funciones específicas en el proceso de procesamiento de semiconductores:

transferencia de oblea: La paleta voladiza de SiC de alta pureza se utiliza generalmente como dispositivo de transferencia de obleas en hornos de oxidación o difusión de alta temperatura. Su alta dureza lo hace resistente al desgaste y no es fácil de deformar durante el uso a largo plazo, y puede garantizar que la oblea permanezca colocada con precisión durante el proceso de transferencia. Combinado con su alta temperatura y resistencia a la corrosión, puede transferir obleas de manera segura dentro y fuera del tubo del horno en ambientes de alta temperatura sin causar contaminación o daño a las obleas.

Soporte de oblea: El material de SiC tiene un bajo coeficiente de expansión térmica, lo que significa que su tamaño cambia menos cuando cambia la temperatura, lo que ayuda a mantener un control preciso en el proceso. En los procesos de deposición química de vapor (CVD) o deposición física de vapor (PVD), la paleta voladiza de SiC se utiliza para soportar y fijar la oblea para garantizar que la oblea permanezca estable y plana durante el proceso de deposición, mejorando así la uniformidad y la calidad de la película. .

Aplicación de procesos de alta temperatura.: La paleta voladiza de SiC tiene una excelente estabilidad térmica y puede soportar temperaturas de hasta 1600 °C. Por lo tanto, este producto se usa ampliamente en recocido, oxidación, difusión y otros procesos a alta temperatura.

Propiedades físicas básicas de la paleta voladiza de SiC de alta pureza:

Paleta voladiza de SiC de alta purezatiendas:

Descripción general de la cadena de la industria de la epitaxia de chips semiconductores: