Paleta voladiza de carburo de silicio

La paleta voladiza de carburo de silicio de VeTek Semiconductor es un componente importante en el proceso de fabricación de semiconductores, especialmente adecuada para hornos de difusión o hornos LPCVD en procesos de alta temperatura como difusión y RTP. Nuestra paleta voladiza de carburo de silicio está cuidadosamente diseñada y fabricada con excelente resistencia a altas temperaturas y resistencia mecánica, y puede transportar obleas de manera segura y confiable al tubo de proceso en duras condiciones de proceso para diversos procesos de alta temperatura, como difusión y RTP. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

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Descripción del Producto

Puede estar seguro de comprar una paleta voladiza de carburo de silicio personalizada de VeTek Semiconducto. Esperamos cooperar con usted, si desea saber más, puede consultarnos ahora, ¡le responderemos a tiempo!

La paleta voladiza de carburo de silicio de VeTek Semiconductor está hecha de carburo de silicio de alta pureza y tiene una excelente resistencia mecánica y a altas temperaturas. Es un componente clave indispensable en el proceso de fabricación de semiconductores, especialmente en hornos de difusión o LPCVD y procesos RTP. El diseño y la fabricación precisos de la paleta voladiza de carburo de silicio garantizan el posicionamiento y la transferencia seguros de obleas para cumplir con los requisitos del proceso de alta precisión.

La paleta voladiza de carburo de silicio de VeTek Semiconductor está hecha de carburo de silicio como material principal. El carburo de silicio tiene las características de alta resistencia y buena estabilidad térmica, por lo que puede soportar condiciones duras en el entorno de proceso de alta temperatura de los hornos de semiconductores. Una de las razones para elegir el carburo de silicio es que puede adaptarse al entorno de alta temperatura de los hornos de semiconductores.

El diseño de la paleta voladiza de carburo de silicio le permite extenderse dentro del tubo de proceso en el horno y fijarse firmemente en un extremo fuera del tubo. Este diseño garantiza que la oblea que se procesa permanezca estable y soportada durante el proceso y minimiza la interferencia con el ambiente térmico en el horno.

VeTek Semiconductor se compromete a proporcionar productos de paletas en voladizo de SiC de alta calidad. Nuestros productos están cuidadosamente diseñados y fabricados para cumplir con los estrictos requisitos del proceso de fabricación de semiconductores. El excelente rendimiento y confiabilidad de la paleta voladiza de carburo de silicio la convierten en un componente clave indispensable en la industria de los semiconductores. VeTek Semiconductor se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

Parámetro del producto de la paleta voladiza de carburo de silicio

Propiedades físicas del carburo de silicio recristalizado
Propiedad	Valor típico
Temperatura de trabajo (°C)	1600°C (con oxígeno), 1700°C (ambiente reductor)
Contenido de SiC	> 99,96%
Contenido gratuito de Si	<0,1%
Densidad a Granel	2,60-2,70 g/cm3
Porosidad aparente	< 16%
Fuerza comprensiva	> 600MPa
Resistencia a la flexión en frío	80-90 MPa (20°C)
Resistencia a la flexión en caliente	90-100MPa (1400°C)
Expansión térmica @1500°C	4,70 10-6/°C
Conductividad térmica a 1200°C	23 W/m·K
Modulos elasticos	240 GPa
Resistencia al choque térmico	Extremadamente bueno

Taller de producción de semiconductores VeTek

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