Materia prima CVD SiC de alta pureza

VeTek Semiconductor ha desarrollado un nuevoMateria prima de monocristal de SiC - High purity CVD SiC raw material. This product fills the domestic gap and is also at the leading level globally, and will be in a long-term leading position in the competition. Traditional silicon carbide raw materials are produced by the reaction of high-purity silicon and grafito, que son de alto costo, baja pureza y pequeño tamaño. 

La tecnología de lecho fluidizado de VeTek Semiconductor utiliza metiltriclorosilano para generar materias primas de carburo de silicio mediante deposición química de vapor, y el principal subproducto es el ácido clorhídrico. El ácido clorhídrico puede formar sales al neutralizarlo con álcali y no causará ninguna contaminación al medio ambiente. Al mismo tiempo, el metiltriclorosilano es un gas industrial ampliamente utilizado, de bajo costo y de amplias fuentes, especialmente China es el principal productor de metiltriclorosilano. Por lo tanto, la materia prima CVD SiC de alta pureza de VeTek Semiconductor tiene una competitividad líder internacional en términos de costo y calidad. La pureza de la materia prima CVD SiC de alta pureza es mayor que99,9995%.

Ventajas de la materia prima CVD SiC de alta pureza

 ● Gran tamaño y alta densidad

El tamaño de partícula promedio es de aproximadamente 4 a 10 mm, y el tamaño de partícula de las materias primas domésticas de Acheson es <2,5 mm. El mismo volumen de crisol puede contener más de 1,5 kg de materias primas, lo que contribuye a resolver el problema del suministro insuficiente de materiales de crecimiento de cristales de gran tamaño, aliviando la grafitización de las materias primas, reduciendo la envoltura de carbono y mejorando la calidad del cristal.

 ●Baja relación Si/C

Está más cerca de 1:1 que las materias primas de Acheson del método de autopropagación, lo que puede reducir los defectos inducidos por el aumento de la presión parcial del Si.

 ●Alto valor de salida

Las materias primas cultivadas aún mantienen el prototipo, reducen la recristalización, reducen la grafitización de las materias primas, reducen los defectos de envoltura de carbono y mejoran la calidad de los cristales.

● Mayor pureza

La pureza de las materias primas producidas por el método CVD es mayor que la de las materias primas Acheson del método autopropagante. El contenido de nitrógeno alcanzó 0,09 ppm sin purificación adicional. Esta materia prima también puede desempeñar un papel importante en el campo del semiaislante.

● Menor costo

La tasa de evaporación uniforme facilita el control de calidad del proceso y del producto, al tiempo que mejora la tasa de utilización de las materias primas (tasa de utilización>50 %, 4,5 kg de materias primas producen lingotes de 3,5 kg), lo que reduce los costos.

 ●Baja tasa de error humano

La deposición química de vapor evita las impurezas introducidas por la operación humana.

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