VeTek Semiconductor es un innovador y fabricante líder de mandriles recubiertos de carburo de tantalio en China. Nos hemos especializado en el recubrimiento de TaC durante muchos años. Nuestros productos tienen una alta pureza y resistencia a altas temperaturas de hasta 2000 ℃. Esperamos convertirnos en su proveedor a largo plazo. socio en China.
VeTek Semiconductor suministra mandril recubierto de carburo de tantalio de alta calidad y piezas con recubrimiento de SiC a precios competitivos. Bienvenido a consultarnos. Mandril recubierto de carburo de tantalio VeTek Semiconductor, diseñado específicamente para el sistema AIXTRON G10 MOCVD. Este accesorio mejora la eficiencia y la calidad en la fabricación de semiconductores, ofreciendo un rendimiento y una confiabilidad excepcionales.
Elaborado con materiales de alta calidad y fabricado con precisión, el mandril presenta un sustrato de grafito recubierto con carburo de tantalio (TaC) CVD. Este recubrimiento proporciona una excelente estabilidad térmica, alta pureza y resistencia a altas temperaturas. Garantiza un rendimiento confiable en las exigentes condiciones de los procesos MOCVD.
El mandril se puede personalizar para adaptarse a diferentes tamaños de obleas semiconductoras, lo que lo hace adecuado para diversos requisitos de producción. Su construcción robusta minimiza el tiempo de inactividad y los costos de mantenimiento asociados con los portadores de obleas y susceptores.
Con el mandril recubierto de carburo de tantalio semiconductor VeTek, el sistema AIXTRON G10 MOCVD logra una mayor eficiencia y resultados superiores en la fabricación de semiconductores. Su excepcional estabilidad térmica, compatibilidad con diferentes tamaños de obleas y rendimiento confiable lo convierten en una herramienta esencial para optimizar la eficiencia de la producción y lograr resultados sobresalientes en el desafiante entorno MOCVD.
Propiedades físicas del recubrimiento TaC. | |
Densidad | 14,3 (g/cm³) |
Emisividad específica | 0.3 |
Coeficiente de expansión térmica | 6,3 10-6/k |
Dureza (HK) | 2000 Hong Kong |
Resistencia | 1×10-5 ohmios*cm |
Estabilidad térmica | <2500℃ |
Cambios de tamaño de grafito | -10~-20um |
Espesor del revestimiento | Valor típico ≥20um (35um±10um) |