Tubo de horno de difusión de SiC

Diagrama esquemático de funcionamiento del tubo del horno de difusión de SiC

El tubo de horno de difusión de SiC Semiconductor VeTek tiene las siguientes ventajas del producto:

Excelentes propiedades mecánicas a alta temperatura: El tubo de horno de difusión de SiC tiene las mejores propiedades mecánicas a altas temperaturas de cualquier material cerámico conocido, incluida una excelente resistencia y resistencia a la fluencia. Esto lo hace particularmente adecuado para aplicaciones que requieren estabilidad a largo plazo a altas temperaturas.

Excelente resistencia a la oxidación: El tubo del horno de difusión de SiC de VeTek Semiconductor tiene una excelente resistencia a la oxidación, la mejor de todas las cerámicas sin óxido. Esta propiedad garantiza estabilidad y rendimiento a largo plazo en ambientes de alta temperatura, reduciendo el riesgo de degradación y extendiendo la vida útil del tubo.

● Alta resistencia a la flexión: El tubo de horno de difusión VeTekSemi SiC tiene una resistencia a la flexión de más de 200 MPa, lo que garantiza excelentes propiedades mecánicas e integridad estructural en las condiciones de alta tensión típicas de los procesos de fabricación de semiconductores.

● Excelente resistencia a la corrosióne: La inercia química del tubo de horno de SiC proporciona una excelente resistencia a la corrosión, lo que hace que estos tubos sean ideales para su uso en los entornos químicos hostiles que a menudo se encuentran en el procesamiento de semiconductores.

● Alta resistencia al desgaste: Los hornos tubulares de SiC tienen una fuerte resistencia al desgaste, lo cual es esencial para mantener la estabilidad dimensional y reducir los requisitos de mantenimiento cuando se utilizan durante largos períodos de tiempo en condiciones abrasivas.

● Con revestimiento CVD: El recubrimiento sic de deposición química de vapor (CVD) semiconductor VeTek tiene un nivel de pureza superior al 99,9995 %, un contenido de impurezas inferior a 5 ppm e impurezas metálicas nocivas inferiores a 1 ppm. El proceso de recubrimiento CVD garantiza que el tubo cumpla con los estrictos requisitos de estanqueidad al vacío de 2-3 Torr, lo cual es fundamental para entornos de fabricación de semiconductores de alta precisión.

● Aplicación en hornos de difusión.: Estos tubos sic están diseñados para hornos de difusión de semiconductores, donde desempeñan un papel clave en procesos de alta temperatura como el dopaje y la oxidación. Las propiedades avanzadas de sus materiales garantizan que puedan resistir las duras condiciones de estos procesos, mejorando así la eficiencia y confiabilidad de la producción de semiconductores.

VeTek Semiconductor lleva mucho tiempo comprometido a proporcionar tecnología avanzada y soluciones de productos para la industria de semiconductores, y respalda servicios profesionales personalizados. Al elegir el tubo de horno de difusión de SiC de VeTek Semiconductor, obtendrá un producto con excelente rendimiento y alta confiabilidad para satisfacer las diversas necesidades de la fabricación moderna de semiconductores. Esperamos sinceramente ser su socio a largo plazo en China.

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