Portador de oblea horizontal de SiC

Semiconductores VeTekPortador de oblea horizontal de SiC/El barco tiene un punto de fusión extremadamente alto (alrededor de 2700°C), lo que permitePortador de oblea horizontal de SiC/Barco para trabajar de forma estable en ambientes de alta temperatura sin deformación ni degradación. Esta característica es particularmente importante en el proceso de fabricación de semiconductores, especialmente en procesos como el recocido a alta temperatura o la deposición química de vapor (CVD).

ElPortador de oblea horizontal de SiC/Boat desempeña específicamente las siguientes funciones en el proceso de transporte de portadores de obleas:

Transporte y soporte de oblea de silicio.: El barco de oblea horizontal de SiC se utiliza principalmente para transportar y soportar obleas de silicio durante la fabricación de semiconductores. Puede organizar firmemente varias obleas de silicio juntas para garantizar que permanezcan en buena posición y estabilidad durante todo el proceso de procesamiento.

Calefacción y refrigeración uniformes: Debido a la alta conductividad térmica del SiC, el Wafer Boat puede distribuir eficazmente el calor de manera uniforme a todas las obleas de silicio. Esto ayuda a lograr un calentamiento o enfriamiento uniforme de las obleas de silicio durante el procesamiento a alta temperatura, lo que garantiza la consistencia y confiabilidad del proceso de procesamiento.

Prevenir la contaminación: La estabilidad química del SiC le permite funcionar bien en ambientes de alta temperatura y gases corrosivos, reduciendo así la exposición de las obleas de silicio a posibles contaminantes o reactivos, asegurando la pureza y calidad de las obleas de silicio.

De hecho, el barco oblea horizontal de SiC puede desempeñar el papel anterior debido a las características únicas de su producto:

Excelente estabilidad química: El material SiC tiene una excelente resistencia a la corrosión ante una variedad de medios químicos. En el proceso de procesamiento de gases o líquidos corrosivos, SiC Wafer Boat puede resistir eficazmente la corrosión química y proteger las obleas de silicio de la contaminación o daños.

Alta conductividad térmica: La alta conductividad térmica del SiC ayuda a distribuir uniformemente el calor en el proceso portador y a reducir la acumulación de calor. Esto puede mejorar la precisión del control de temperatura durante el procesamiento de precisión y garantizar un calentamiento o enfriamiento uniforme de las obleas de silicio.

Bajo coeficiente de expansión térmica.: El bajo coeficiente de expansión térmica del material de SiC significa que el cambio dimensional de SiC Wafer Boat es muy pequeño durante los cambios de temperatura. Esto ayuda a mantener la estabilidad dimensional durante el procesamiento a alta temperatura y evita la deformación o el desplazamiento posicional de las obleas de silicio causado por la expansión térmica.

Propiedades físicas básicas del soporte de oblea horizontal de SiC:

Taller de producción de semiconductores VeTek:

Descripción general de la cadena de la industria de la epitaxia de chips semiconductores: