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Productos
VeTek es un fabricante y proveedor profesional en China. Nuestra fábrica proporciona fibra de carbono, cerámica de carburo de silicio, epitaxia de carburo de silicio, etc. Si está interesado en nuestros productos, puede consultarnos ahora y nos comunicaremos con usted lo antes posible.
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Portador de recubrimiento CVD TaC
El portador de recubrimiento CVD TaC de VeTek Semiconductor está diseñado principalmente para el proceso epitaxial de fabricación de semiconductores. El punto de fusión ultra alto del portador de recubrimiento CVD TaC, su excelente resistencia a la corrosión y su excelente estabilidad térmica determinan la indispensabilidad de este producto en el proceso epitaxial de semiconductores. Esperamos sinceramente construir una relación comercial a largo plazo con usted.
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Deflector de revestimiento CVD SiC
El deflector de revestimiento CVD SiC de Vetek Semiconductor se utiliza principalmente en Si Epitaxy. Generalmente se utiliza con cilindros de extensión de silicona. Combina la alta temperatura única y la estabilidad del deflector de revestimiento CVD SiC, que mejora en gran medida la distribución uniforme del flujo de aire en la fabricación de semiconductores. Creemos que nuestros productos pueden brindarle tecnología avanzada y soluciones de productos de alta calidad.
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Cilindro de grafito CVD SiC
El cilindro de grafito CVD SiC de Vetek Semiconductor es fundamental en los equipos semiconductores, ya que sirve como escudo protector dentro de los reactores para proteger los componentes internos en entornos de alta temperatura y presión. Protege eficazmente contra productos químicos y calor extremo, preservando la integridad del equipo. Con una resistencia excepcional al desgaste y la corrosión, garantiza longevidad y estabilidad en entornos desafiantes. El uso de estas cubiertas mejora el rendimiento de los dispositivos semiconductores, prolonga la vida útil y mitiga los requisitos de mantenimiento y los riesgos de daños. Bienvenido a consultarnos.
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Boquilla de recubrimiento CVD SiC
Las boquillas de recubrimiento CVD SiC de Vetek Semiconductor son componentes cruciales utilizados en el proceso de epitaxia LPE SiC para depositar materiales de carburo de silicio durante la fabricación de semiconductores. Estas boquillas suelen estar hechas de material de carburo de silicio químicamente estable y de alta temperatura para garantizar la estabilidad en entornos de procesamiento hostiles. Diseñados para una deposición uniforme, desempeñan un papel clave en el control de la calidad y la uniformidad de las capas epitaxiales cultivadas en aplicaciones de semiconductores. Esperamos establecer una cooperación a largo plazo con usted.
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Protector de revestimiento CVD SiC
Vetek Semiconductor proporciona un protector de revestimiento de SiC CVD utilizado como epitaxia de SiC LPE. El término "LPE" generalmente se refiere a epitaxia de baja presión (LPE) en deposición química de vapor a baja presión (LPCVD). En la fabricación de semiconductores, LPE es una tecnología de proceso importante para el cultivo de películas delgadas de cristal único, que a menudo se utiliza para cultivar capas epitaxiales de silicio u otras capas epitaxiales de semiconductores. No dude en contactarnos si tiene más preguntas.
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Pedestal recubierto de SiC
Vetek Semiconductor es profesional en la fabricación de recubrimientos CVD SiC, recubrimientos TaC sobre material de grafito y carburo de silicio. Ofrecemos productos OEM y ODM como pedestal recubierto de SiC, portaobleas, portaobleas, bandeja portaobleas, disco planetario, etc. Con una sala limpia de grado 1000 y un dispositivo de purificación, podemos ofrecerle productos con impurezas inferiores a 5 ppm. Esperamos escuchar de ti pronto.
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