Portador de recubrimiento CVD TaC
  • Portador de recubrimiento CVD TaCPortador de recubrimiento CVD TaC

Portador de recubrimiento CVD TaC

El portador de recubrimiento CVD TaC de VeTek Semiconductor está diseñado principalmente para el proceso epitaxial de fabricación de semiconductores. El punto de fusión ultra alto del portador de recubrimiento CVD TaC, su excelente resistencia a la corrosión y su excelente estabilidad térmica determinan la indispensabilidad de este producto en el proceso epitaxial de semiconductores. Esperamos sinceramente construir una relación comercial a largo plazo con usted.

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Descripción del Producto

VeTek Semiconductor es un fabricante líder profesional de portadores de recubrimiento CVD TaC, SUSCEPTOR EPITAXY y susceptor de grafito recubierto de TaC en China.


A través de una investigación continua de innovación de materiales y procesos, el portador de recubrimiento CVD TaC de Vetek Semiconductor desempeña un papel muy crítico en el proceso epitaxial, que incluye principalmente los siguientes aspectos:


Protección del sustrato: El portador de recubrimiento CVD TaC proporciona una excelente estabilidad química y térmica, evitando eficazmente que las altas temperaturas y los gases corrosivos erosionen el sustrato y la pared interna del reactor, asegurando la pureza y estabilidad del entorno del proceso.


Uniformidad térmica: Combinado con la alta conductividad térmica del portador de recubrimiento CVD TaC, garantiza la uniformidad de la distribución de temperatura dentro del reactor, optimiza la calidad del cristal y la uniformidad del espesor de la capa epitaxial y mejora la consistencia del rendimiento del producto final.


Control de contaminación de partículas: Dado que los portadores recubiertos con CVD TaC tienen tasas de generación de partículas extremadamente bajas, las propiedades de la superficie lisa reducen significativamente el riesgo de contaminación de partículas, mejorando así la pureza y el rendimiento durante el crecimiento epitaxial.


Vida útil extendida del equipo: Combinado con la excelente resistencia al desgaste y a la corrosión del portador de recubrimiento CVD TaC, extiende significativamente la vida útil de los componentes de la cámara de reacción, reduce el tiempo de inactividad del equipo y los costos de mantenimiento y mejora la eficiencia de producción.


Combinando las características anteriores, el portador de recubrimiento CVD TaC de VeTek Semiconductor no solo mejora la confiabilidad del proceso y la calidad del producto en el proceso de crecimiento epitaxial, sino que también proporciona una solución rentable para la fabricación de semiconductores.


Propiedades físicas del portador de recubrimiento CVD TaC:



Taller de producción de recubrimientos CVD SiC:



Descripción general de la cadena de la industria de la epitaxia de chips semiconductores:


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