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Productos
VeTek es un fabricante y proveedor profesional en China. Nuestra fábrica proporciona fibra de carbono, cerámica de carburo de silicio, epitaxia de carburo de silicio, etc. Si está interesado en nuestros productos, puede consultarnos ahora y nos comunicaremos con usted lo antes posible.
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Portador de oblea con recubrimiento CVD TaC
Como fabricante y fábrica profesional de productos portadores de obleas con revestimiento CVD TaC en China, VeTek Semiconductor portador de obleas con revestimiento CVD TaC es una herramienta de transporte de obleas especialmente diseñada para entornos corrosivos y de alta temperatura en la fabricación de semiconductores. y el portador de oblea con revestimiento CVD TaC tiene alta resistencia mecánica, excelente resistencia a la corrosión y estabilidad térmica, lo que brinda la garantía necesaria para la fabricación de dispositivos semiconductores de alta calidad. Sus consultas adicionales son bienvenidas.
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Soporte para oblea Epi
VeTek Semiconductor es un fabricante y fábrica profesional de soportes para obleas Epi en China. Epi Wafer Holder es un soporte para obleas para el proceso de epitaxia en el procesamiento de semiconductores. Es una herramienta clave para estabilizar la oblea y garantizar un crecimiento uniforme de la capa epitaxial. Se utiliza ampliamente en equipos de epitaxia como MOCVD y LPCVD. Es un dispositivo insustituible en el proceso de epitaxia. Bienvenido a su consulta adicional.
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Portaobleas Aixtron Satellite
Como fabricante e innovador profesional de productos Aixtron Satellite Wafer Carrier en China, Aixtron Satellite Wafer Carrier de VeTek Semiconductor es un portador de obleas utilizado en equipos AIXTRON, utilizado principalmente en procesos MOCVD en el procesamiento de semiconductores, y es particularmente adecuado para altas temperaturas y alta precisión. Procesos de procesamiento de semiconductores. El soporte puede proporcionar un soporte de oblea estable y una deposición uniforme de la película durante el crecimiento epitaxial de MOCVD, lo cual es esencial para el proceso de deposición de capas. Bienvenido a su consulta adicional.
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Reactor EPI de SiC de media luna LPE
VeTek Semiconductor es un fabricante, innovador y líder profesional de productos del reactor LPE Halfmoon SiC EPI en China. El reactor LPE Halfmoon SiC EPI es un dispositivo diseñado específicamente para producir capas epitaxiales de carburo de silicio (SiC) de alta calidad, utilizadas principalmente en la industria de semiconductores. VeTek Semiconductor se compromete a proporcionar tecnología y soluciones de productos líderes para la industria de semiconductores y agradece sus consultas adicionales.
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Calentador de revestimiento TaC
VeTek Semiconductor es un fabricante e innovador líder de calentadores de revestimiento TaC en China. Este producto tiene un punto de fusión extremadamente alto (aproximadamente 3880°C). El alto punto de fusión del calentador de revestimiento TaC le permite operar a temperaturas extremadamente altas, especialmente en el crecimiento de capas epitaxiales de nitruro de galio (GaN) en el proceso de deposición química de vapor metal orgánico (MOCVD). VeTek Semiconductor se compromete a proporcionar tecnología avanzada y soluciones de productos para la industria de semiconductores. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
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Deposición física de vapor
La deposición física de vapor (PVD) de semiconductores Vetek es una tecnología de proceso avanzada ampliamente utilizada en el tratamiento de superficies y la preparación de películas delgadas. La tecnología PVD utiliza métodos físicos para transformar directamente materiales de sólidos o líquidos a gases y formar una película delgada en la superficie del sustrato objetivo. Esta tecnología tiene las ventajas de alta precisión, alta uniformidad y fuerte adhesión, y se usa ampliamente en semiconductores, dispositivos ópticos, recubrimientos de herramientas y recubrimientos decorativos. ¡Bienvenido a discutir con nosotros!
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