¿Cuánto sabes sobre CVD SiC?

CVD SiC(Carburo de silicio por deposición química de vapor) es un material de carburo de silicio de alta pureza fabricado mediante deposición química de vapor. Se utiliza principalmente para diversos componentes y recubrimientos en equipos de procesamiento de semiconductores.Material de SiC CVDtiene una excelente estabilidad térmica, alta dureza, bajo coeficiente de expansión térmica y excelente resistencia a la corrosión química, lo que lo convierte en un material ideal para usar en condiciones de proceso extremas.

El material CVD SiC se usa ampliamente en componentes que involucran altas temperaturas, ambientes altamente corrosivos y alta tensión mecánica en el proceso de fabricación de semiconductores.incluyendo principalmente los siguientes productos:

Recubrimiento CVD SiC:

Se utiliza como capa protectora para equipos de procesamiento de semiconductores para evitar que el sustrato se dañe por altas temperaturas, corrosión química y desgaste mecánico.

Barco de oblea de SiC:

Se utiliza para transportar y transportar obleas en procesos de alta temperatura (como difusión y crecimiento epitaxial) para garantizar la estabilidad de las obleas y la uniformidad de los procesos.

tubo de proceso de SiC:

Los tubos de proceso de SiC se utilizan principalmente en hornos de difusión y hornos de oxidación para proporcionar un entorno de reacción controlado para las obleas de silicio, asegurando una deposición precisa del material y una distribución uniforme del dopaje.

Paleta voladiza de SiC:

La paleta voladiza de SiC se utiliza principalmente para transportar o soportar obleas de silicio en hornos de difusión y hornos de oxidación, desempeñando un papel de soporte. Especialmente en procesos de alta temperatura como difusión, oxidación, recocido, etc., asegura la estabilidad y el tratamiento uniforme de las obleas de silicio en ambientes extremos.

Cabezal de ducha CVD SiC:

Se utiliza como componente de distribución de gas en equipos de grabado por plasma, con excelente resistencia a la corrosión y estabilidad térmica para garantizar una distribución uniforme del gas y un efecto de grabado.

Techo recubierto de SiC:

Componentes en la cámara de reacción del equipo, utilizados para proteger el equipo contra daños causados ​​por altas temperaturas y gases corrosivos, y extender la vida útil del equipo.

Susceptores de epitaxia de silicio:

Portadores de obleas utilizados en procesos de crecimiento epitaxial de silicio para garantizar un calentamiento uniforme y una calidad de deposición de las obleas.

Chemical vapor deposited silicon carbide (CVD SiC) has a wide range of applications in semiconductor processing, mainly used to manufacture devices and components that are resistant to high temperatures, corrosion, and high hardness. Su papel central se refleja en los siguientes aspectos:

Recubrimientos protectores en ambientes de alta temperatura.:

Función: CVD SiC se utiliza a menudo para revestimientos de superficies de componentes clave en equipos semiconductores (como suceptores, revestimientos de cámaras de reacción, etc.). Estos componentes deben funcionar en entornos de alta temperatura y los recubrimientos CVD SiC pueden proporcionar una excelente estabilidad térmica para proteger el sustrato de daños por alta temperatura.

Ventajas: El alto punto de fusión y la excelente conductividad térmica del CVD SiC garantizan que los componentes puedan funcionar de manera estable durante mucho tiempo en condiciones de alta temperatura, lo que extiende la vida útil del equipo.

Aplicaciones anticorrosión:

Función: En el proceso de fabricación de semiconductores, el recubrimiento CVD SiC puede resistir eficazmente la erosión de gases y productos químicos corrosivos y proteger la integridad de equipos y dispositivos. Esto es especialmente importante para el manejo de gases altamente corrosivos como fluoruros y cloruros.

Ventajas: Al depositar un recubrimiento CVD SiC en la superficie del componente, los daños al equipo y los costos de mantenimiento causados ​​por la corrosión se pueden reducir considerablemente y se puede mejorar la eficiencia de la producción.

Aplicaciones de alta resistencia y resistentes al desgaste.:

Función: El material CVD SiC es conocido por su alta dureza y alta resistencia mecánica. Se utiliza ampliamente en componentes semiconductores que requieren resistencia al desgaste y alta precisión, como sellos mecánicos, componentes de carga, etc. Estos componentes están sujetos a fuertes tensiones mecánicas y fricción durante el funcionamiento. CVD SiC puede resistir eficazmente estas tensiones y garantizar una larga vida útil y un rendimiento estable del dispositivo.

Ventajas: Los componentes fabricados de CVD SiC no solo pueden resistir tensiones mecánicas en entornos extremos, sino que también mantienen su estabilidad dimensional y acabado superficial después de un uso prolongado.

Al mismo tiempo, CVD SiC juega un papel vital enCrecimiento epitaxial LED, semiconductores de potencia y otros campos. En el proceso de fabricación de semiconductores, los sustratos CVD SiC se suelen utilizar comoSUSCEPTORES DE EPI. Su excelente conductividad térmica y estabilidad química hacen que las capas epitaxiales crecidas tengan mayor calidad y consistencia. Además, CVD SiC también se utiliza ampliamente enSoportes de grabado PSS, Portadores de obleas RTP, Soportes de grabado ICP, etc., proporcionando soporte estable y confiable durante el grabado de semiconductores para garantizar el rendimiento del dispositivo.

VeTek semiconductor Technology Co., LTD es un proveedor líder de materiales de recubrimiento avanzados para la industria de semiconductores. Nuestra empresa se centra en el desarrollo de soluciones de vanguardia para la industria.

Nuestra principal oferta de productos incluye recubrimientos de carburo de silicio (SiC) CVD, recubrimientos de carburo de tantalio (TaC), SiC a granel, polvos de SiC y materiales de SiC de alta pureza, susceptor de grafito recubierto de SiC, precalentamiento, anillo de desviación recubierto de TaC, media luna, piezas de corte, etc. ., la pureza es inferior a 5 ppm, los anillos cortantes pueden cumplir con los requisitos del cliente.

VeTek semiconductor se centra en el desarrollo de tecnología de vanguardia y soluciones de desarrollo de productos para la industria de semiconductores.Esperamos sinceramente convertirnos en su socio a largo plazo en China..