Hogar > Productos > Recubrimiento de carburo de tantalio > Proceso de epitaxia de SiC > Cubierta recubierta de carburo de tantalio
Cubierta recubierta de carburo de tantalio
  • Cubierta recubierta de carburo de tantalioCubierta recubierta de carburo de tantalio

Cubierta recubierta de carburo de tantalio

VeTek Semiconductor es un fabricante e innovador líder de cubiertas recubiertas de carburo de tantalio en China. Nos hemos especializado en recubrimientos de TaC y SiC durante muchos años. Nuestros productos tienen resistencia a la corrosión y alta resistencia. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

Enviar Consulta

Descripción del Producto


Encuentre una gran selección de cubiertas recubiertas de carburo de tantalio de China en VeTek Semiconductor. Brinde un servicio posventa profesional y el precio correcto, esperando cooperar. La cubierta recubierta de carburo de tantalio desarrollada por VeTek Semiconductor es un accesorio diseñado específicamente para el sistema AIXTRON G10 MOCVD, con el objetivo de optimizar la eficiencia y mejorar la calidad de fabricación de semiconductores. Está meticulosamente elaborado con materiales de alta calidad y fabricado con la máxima precisión, lo que garantiza un rendimiento y una confiabilidad excepcionales para los procesos de deposición química de vapor metal-orgánico (MOCVD).


Construida con un sustrato de grafito recubierto con carburo de tantalio (TaC) por deposición química de vapor (CVD), la cubierta recubierta de carburo de tantalio ofrece una estabilidad térmica excepcional, alta pureza y resistencia a temperaturas elevadas. Esta combinación única de materiales proporciona una solución confiable para las exigentes condiciones operativas del sistema MOCVD.


La cubierta recubierta de carburo de tantalio se puede personalizar para adaptarse a varios tamaños de obleas semiconductoras, lo que la hace adecuada para diversos requisitos de producción. Su construcción robusta está diseñada específicamente para resistir el desafiante entorno MOCVD, lo que garantiza un rendimiento duradero y minimiza el tiempo de inactividad y los costos de mantenimiento asociados con los portadores de obleas y susceptores.


Al incorporar la cubierta TaC en el sistema AIXTRON G10 MOCVD, los fabricantes de semiconductores pueden lograr una mayor eficiencia y resultados superiores. La excepcional estabilidad térmica, la compatibilidad con diferentes tamaños de oblea y el rendimiento confiable del disco planetario lo convierten en una herramienta indispensable para optimizar la eficiencia de la producción y lograr resultados sobresalientes en el proceso MOCVD.



Parámetro del producto de la cubierta recubierta de carburo de tantalio

Propiedades físicas del recubrimiento TaC.
Densidad 14,3 (g/cm³)
Emisividad específica 0.3
Coeficiente de expansión térmica 6.3 10-6/K
Dureza (HK) 2000 Hong Kong
Resistencia 1×10-5Ohmios*cm
Estabilidad térmica <2500℃
Cambios de tamaño de grafito -10~-20um
Espesor del recubrimiento Valor típico ≥20um (35um±10um)


Rendimiento de la oblea después de usar nuestros componentes:

the Wafer performance after using our components


Taller de producción de semiconductores VeTek:

Tantalum Carbide Coated Cover shops


Descripción general de la cadena de la industria de la epitaxia de chips semiconductores:


Etiquetas calientes: Cubierta recubierta de carburo de tantalio, China, fabricante, proveedor, fábrica, personalizado, compra, avanzado, duradero, hecho en China
Categoría relacionada
Enviar Consulta
Por favor, siéntase libre de dar su consulta en el siguiente formulario. Le responderemos en 24 horas.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept