Este artículo presenta principalmente los tipos de productos, las características del producto y las funciones principales del recubrimiento TaC en el procesamiento de semiconductores, y realiza un análisis e interpretación completos de los productos de recubrimiento TaC en su conjunto.
Leer másEste artículo presenta principalmente los tipos de productos, las características del producto y las funciones principales del susceptor MOCVD en el procesamiento de semiconductores, y realiza un análisis e interpretación completos de los productos del susceptor MOCVD en su conjunto.
Leer másEn la industria de fabricación de semiconductores, a medida que el tamaño de los dispositivos continúa reduciéndose, la tecnología de deposición de materiales de película delgada ha planteado desafíos sin precedentes. La deposición de capas atómicas (ALD), como tecnología de deposición de películas ......
Leer másEs ideal para construir circuitos integrados o dispositivos semiconductores sobre una capa base cristalina perfecta. El proceso de epitaxia (epi) en la fabricación de semiconductores tiene como objetivo depositar una fina capa monocristalina, generalmente de entre 0,5 y 20 micrones, sobre un sustrat......
Leer másLa principal diferencia entre la epitaxia y la deposición de capas atómicas (ALD) radica en los mecanismos de crecimiento de la película y las condiciones de funcionamiento. La epitaxia se refiere al proceso de hacer crecer una película delgada cristalina sobre un sustrato cristalino con una relació......
Leer másEl recubrimiento CVD TAC es un proceso para formar un recubrimiento denso y duradero sobre un sustrato (grafito). Este método implica depositar TaC sobre la superficie del sustrato a altas temperaturas, lo que da como resultado un recubrimiento de carburo de tantalio (TaC) con excelente estabilidad ......
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