Crisol de recubrimiento CVD TaC

El susceptor de rotación del recubrimiento TaC desempeña un papel clave en los procesos de deposición a alta temperatura, como CVD y MBE, y es un componente importante para el procesamiento de obleas en la fabricación de semiconductores. Entre ellos,Recubrimiento TaCtiene una excelente resistencia a altas temperaturas, resistencia a la corrosión y estabilidad química, lo que garantiza una alta precisión y alta calidad durante el procesamiento de obleas.

El crisol con revestimiento CVD TaC generalmente consta de revestimiento TaC ygrafitosustrato. Entre ellos, el TaC es un material cerámico de alto punto de fusión con un punto de fusión de hasta 3880 °C. Tiene una dureza extremadamente alta (dureza Vickers de hasta 2000 HV), resistencia a la corrosión química y una fuerte resistencia a la oxidación. Por lo tanto, el revestimiento TaC es un excelente material resistente a altas temperaturas en la tecnología de procesamiento de semiconductores.

El sustrato de grafito tiene buena conductividad térmica (la conductividad térmica es de aproximadamente 21 W/m·K) y excelente estabilidad mecánica. Esta característica determina que el grafito se convierta en un recubrimiento idealsustrato.

El crisol de recubrimiento CVD TaC se utiliza principalmente en las siguientes tecnologías de procesamiento de semiconductores:

Fabricación de obleas: El crisol con revestimiento CVD TaC de VeTek Semiconductor tiene una excelente resistencia a altas temperaturas (punto de fusión de hasta 3880 °C) y resistencia a la corrosión, por lo que se utiliza a menudo en procesos clave de fabricación de obleas, como la deposición de vapor a alta temperatura (CVD) y el crecimiento epitaxial. Combinado con la excelente estabilidad estructural del producto en entornos de temperaturas ultraaltas, garantiza que el equipo pueda funcionar de manera estable durante mucho tiempo en condiciones extremadamente duras, mejorando así de manera efectiva la eficiencia de producción y la calidad de las obleas.

Proceso de crecimiento epitaxial: En procesos epitaxiales comodeposición química de vapor (CVD)y epitaxia de haz molecular (MBE), el crisol con revestimiento CVD TaC desempeña un papel clave en el transporte. Su recubrimiento TaC no solo puede mantener la alta pureza del material en condiciones de temperatura extrema y atmósfera corrosiva, sino que también previene eficazmente la contaminación de los reactivos en el material y la corrosión del reactor, asegurando la precisión del proceso de producción y la consistencia del producto.

Como fabricante y líder líder de crisoles con recubrimiento CVD TaC de China, VeTek Semiconductor puede proporcionar productos y servicios técnicos personalizados de acuerdo con sus requisitos de equipo y proceso. Esperamos sinceramente convertirnos en su socio a largo plazo en China.

Recubrimiento de carburo de tantalio (TaC) en una sección transversal microscópica：

Propiedades físicas del recubrimiento TaC.：

Semiconductores VeTek Talleres de crisol con revestimiento CVD TaC: