VeTek Semiconductor es un fabricante y proveedor líder de productos de sustrato SiN en China. Nuestro sustrato de nitruro de silicio tiene una excelente conductividad térmica, una excelente estabilidad química y resistencia a la corrosión, y una excelente resistencia, lo que lo convierte en un material de alto rendimiento para aplicaciones de semiconductores. El sustrato VeTekSemi SiN garantiza que usted se beneficiará de la tecnología de vanguardia en el campo del procesamiento de semiconductores, un estricto control de calidad y agradece sus consultas adicionales.
El sustrato VeTek Semiconductor SiN es un avanzadomaterial cerámicoque ha atraído gran atención por sus excelentes propiedades mecánicas, eléctricas y térmicas. Esta cerámicasustratoestá hecho de átomos de silicio y nitrógeno unidos a través de una estructura cristalina específica, exhibiendo fuerza, durabilidad y resistencia al calor únicas. Los sustratos de SiN son indispensables en aplicaciones de alto rendimiento, como dispositivos semiconductores, y sus propiedades mejoran significativamente la eficiencia y confiabilidad de los circuitos integrados (CI), sensores ysistemas microelectromecánicos (MEMS).
Características del producto de sustratos SiN:
Excelente conductividad térmica: La gestión térmica juega un papel importante en el rendimiento de los dispositivos semiconductores. La conductividad térmica de la placa cerámica SiN es de hasta 130 W/m·K, lo que puede disipar eficazmente el calor de los componentes electrónicos y evitar el sobrecalentamiento, extendiendo así la vida útil del equipo.
Estabilidad química y resistencia a la corrosión.: El nitruro de silicio exhibe una resistencia extremadamente fuerte a la corrosión química y es particularmente adecuado para su uso en entornos expuestos a productos químicos o temperaturas extremas. Incluso en ambientes con gases corrosivos, ácidos y álcalis, los sustratos de SiN mantienen su integridad estructural, lo que garantiza confiabilidad a largo plazo en aplicaciones industriales.
Alta resistencia al choque térmico: Los sustratos de SiN pueden soportar cambios rápidos de temperatura de hasta 1200 °C sin choque térmico ni grietas. Esta propiedad es fundamental en áreas como la electrónica de potencia y los sensores de alta temperatura, que a menudo se ven desafiadas por cambios repentinos de temperatura.
Alta resistencia y tenacidad: En comparación con otros materiales cerámicos, la resistencia a la compresión deSustrato cerámico SiNPuede alcanzar los 600 MPa, mostrando una excelente tenacidad. Esto le permite resistir eficazmente el agrietamiento y mantener la integridad estructural en procesos de semiconductores procesados con precisión y de alta tensión, lo que garantiza la estabilidad mecánica.
Descripción general de la fabricación de TEM de silicio/nitruro de silicio (Si/SiN)
El sustrato de nitruro de silicio (SiN) de VeTek Semiconductor se ha convertido en un material clave en la industria de los semiconductores y otros campos debido a las excelentes propiedades de su producto. Especialmente en los campos de los dispositivos semiconductores, MEMS, optoelectrónica y electrónica de potencia, los sustratos de SiN están impulsando el desarrollo de la futura tecnología electrónica como piedra angular importante.
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