Recubrimiento CVD SiC Oblea simulada

Características del producto de la oblea simulada con recubrimiento VeTeksemi CVD SiC:

●  Resistencia al gas a alta temperatura: SiC Dummy Wafer tiene una excelente resistencia a la erosión por gas a alta temperatura, adecuada para su uso en condiciones extremas. Esta resiliencia garantiza un rendimiento constante incluso en los entornos más exigentes.

●  Integridad estructural a largo plazo: Recubrimiento CVD SiC Las obleas simuladas están diseñadas para resistir la flexión y la deformación durante largos períodos de tiempo. Su durabilidad garantiza que sigan siendo confiables durante múltiples ciclos de prueba, lo que reduce la necesidad de reemplazos frecuentes.

●  Superficie libre de partículas: Las obleas falsas de SiC tienen una superficie fácil de limpiar que minimiza los problemas de partículas, lo cual es fundamental para mantener un ambiente libre de contaminación. Esta característica admite resultados de alta calidad y reduce el riesgo de defectos.

●  Estabilidad química: La estabilidad química de la oblea simulada recubierta de SiC le permite resistir una variedad de sustancias corrosivas sin degradación. Esta característica es fundamental para mantener la integridad de la oblea durante la exposición química.

Usos específicos de las obleas ficticias recubiertas de CVD SiC:

●  Pruebas y experimentación versátiles: Las obleas ficticias recubiertas de SiC son esenciales en todas las etapas de la producción de semiconductores y proporcionan un medio seguro y confiable de prueba y experimentación. Son esenciales al inicio del proceso de producción, asegurando que todos los parámetros sean óptimos antes de utilizar las valiosas obleas de producción.

●  Protección durante la difusión: Durante el proceso de difusión, las obleas ficticias desempeñan un papel vital al proteger las obleas de silicio estándar. Esta función protectora evita daños y contaminación, manteniendo así la integridad y calidad de la oblea original.

●  Precisión de la medición: Estas obleas se utilizan cuidadosamente para medir el espesor de la película, la resistencia a la presión y el índice de reflexión. También ayudan a detectar la presencia de pinballs y evaluar las dimensiones de los patrones en litografía, lo que contribuye significativamente a la precisión del proceso y la reducción de defectos.

De hecho, VeTek Semiconductor admite servicios de productos personalizados y puede proporcionar serialización definida por el usuario en cada oblea simulada de recubrimiento CVD SiC según las necesidades del cliente, lo que permite personalizar el tamaño y el grosor. El grabado láser personalizado elimina aún más el riesgo de contaminación cruzada, lo que garantiza un alto grado de pureza y confiabilidad.

DATOS SEM DE LA PELÍCULA DE RECUBRIMIENTO CVD SIC: