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Calentador MOCVD de grafito con revestimiento de SiC

Calentador MOCVD de grafito con revestimiento de SiC

El semiconductor Vetek produce un calentador MOCVD de grafito SIC, que es un componente clave del proceso MOCVD. Basado en un sustrato de grafito de alta pureza, la superficie está recubierta con un recubrimiento SIC de alta pureza para proporcionar una excelente estabilidad de alta temperatura y resistencia a la corrosión. Con servicios de productos de alta calidad y altamente personalizados, el calentador de grafito MOCVD de recubrimiento SIC de Vetek Semiconductor es una opción ideal para garantizar la estabilidad del proceso MOCVD y la calidad de deposición de película delgada. VeTeK Semiconductor espera convertirse en su socio.

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Susceptor epitaxial planetario de SiC con revestimiento CVD TaC

Susceptor epitaxial planetario de SiC con revestimiento CVD TaC

El susceptor epitaxial planetario de SiC con revestimiento CVD TaC es uno de los componentes centrales del reactor planetario MOCVD. A través del susceptor epitaxial planetario de SiC con recubrimiento CVD TaC, el disco grande orbita y el disco pequeño gira, y el modelo de flujo horizontal se extiende a máquinas de múltiples chips, de modo que tiene tanto la gestión de uniformidad de longitud de onda epitaxial de alta calidad como la optimización de defectos de un solo Máquinas de chips y las ventajas de costos de producción de las máquinas de chips múltiples. VeTek Semiconductor puede proporcionar a los clientes un susceptor epitaxial planetario de SiC con recubrimiento CVD TaC altamente personalizado. Si también quieres fabricar un horno MOCVD planetario como Aixtron, ¡ven a nosotros!

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Recubrimiento de SiC Bandeja epitaxial de silicio monocristalino

Recubrimiento de SiC Bandeja epitaxial de silicio monocristalino

La bandeja epitaxial de silicio monocristalino con revestimiento de SiC es un accesorio importante para el horno de crecimiento epitaxial de silicio monocristalino, ya que garantiza una contaminación mínima y un entorno de crecimiento epitaxial estable. La bandeja epitaxial de silicio monocristalino con revestimiento de SiC de VeTek Semiconductor tiene una vida útil ultralarga y ofrece una variedad de opciones de personalización. VeTek Semiconductor espera convertirse en su socio a largo plazo en China.

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Soporte de oblea de SiC sólido

Soporte de oblea de SiC sólido

El portador de obleas de SiC sólido de VeTek Semiconductor está diseñado para entornos resistentes a altas temperaturas y a la corrosión en procesos epitaxiales de semiconductores y es adecuado para todo tipo de procesos de fabricación de obleas con requisitos de alta pureza. VeTek Semiconductor es un proveedor líder de soportes de obleas en China y espera convertirse en su socio a largo plazo en la industria de los semiconductores.

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Cubierta de satélite recubierta de SiC para MOCVD

Cubierta de satélite recubierta de SiC para MOCVD

Como fabricante y proveedor líder de cubiertas para satélites recubiertas de SiC para productos MOCVD en China, las cubiertas para satélites recubiertas de SiC de Vetek Semiconductor para productos MOCVD tienen una resistencia a altas temperaturas extremas, una excelente resistencia a la oxidación y a la corrosión, lo que desempeña un papel insustituible para garantizar una epitaxial de alta calidad. crecimiento en obleas. Bienvenido a sus consultas adicionales.

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Cabezal de ducha en forma de disco de SiC sólido

Cabezal de ducha en forma de disco de SiC sólido

VeTek Semiconductor es un fabricante líder de equipos semiconductores en China y un fabricante y proveedor profesional de cabezales de ducha con forma de disco de SiC sólido. Nuestro cabezal de ducha con forma de disco se usa ampliamente en la producción de deposición de películas delgadas, como el proceso CVD, para garantizar una distribución uniforme del gas de reacción y es uno de los componentes principales del horno CVD.

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