Grafito poroso con revestimiento de TaC

El grafito poroso con revestimiento de TaC es un material de procesamiento de semiconductores avanzado proporcionado por VeTek Semiconductor. El grafito poroso con revestimiento de TaC combina las ventajas del grafito poroso y el revestimiento de carburo de tantalio (TaC), con buena conductividad térmica y permeabilidad a los gases. VeTek Semiconductor se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos ser su socio a largo plazo en China.

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Descripción del Producto

VeTek Semiconductor es un fabricante y proveedor de China que produce principalmente grafito poroso con revestimiento de TaC con muchos años de experiencia. Esperamos construir una relación comercial con usted.

El grafito poroso VeTek Semiconductor con material recubierto de TaC es un material de fabricación de semiconductores revolucionario que combina perfectamente el grafito poroso con el recubrimiento de carburo de tantalio (TaC). Este material de grafito poroso con revestimiento de TaC tiene una excelente permeabilidad y alta porosidad, con una porosidad máxima del 75 %, estableciendo un récord internacional en la industria. El recubrimiento TaC de alta pureza no solo mejora la resistencia a la corrosión y al desgaste del grafito poroso, sino que también proporciona una capa adicional de protección, resolviendo eficazmente desafíos como el procesamiento y la corrosión.

El uso de grafito poroso recubierto de TaC puede mejorar significativamente la eficiencia y la calidad del proceso de fabricación de semiconductores. Su excelente permeabilidad asegura la estabilidad del material en condiciones de alta temperatura y controla eficazmente el aumento de impurezas de carbono. Al mismo tiempo, el diseño de alta porosidad proporciona un mejor rendimiento de difusión de gas para ayudar a mantener un entorno de crecimiento puro.

Estamos comprometidos a brindar a los clientes excelente grafito poroso con materiales recubiertos de TaC para satisfacer las necesidades de la industria de fabricación de semiconductores. Ya sea en laboratorios de investigación o en producción industrial, este material avanzado puede ayudarle a lograr un rendimiento y una confiabilidad excelentes. Contáctenos hoy para obtener más información sobre este material revolucionario y comenzar su viaje de innovación para impulsar la fabricación de semiconductores.

Método PVT Crecimiento de cristales de SiC

Parámetro del producto del grafito poroso con revestimiento de TaC

Propiedades físicas del recubrimiento TaC.
Densidad	14,3 (g/cm³)
Emisividad específica	0.3
Coeficiente de expansión térmica	6,3 10-6/K
Dureza (HK)	2000 Hong Kong
Resistencia	1×10-5 ohmios*cm
Estabilidad térmica	<2500℃
Cambios de tamaño de grafito	-10~-20um
Espesor del revestimiento	Valor típico ≥20um (35um±10um)

Taller de producción de semiconductores VeTek

Descripción general de la cadena de la industria de la epitaxia de chips semiconductores:

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