Pedestal de cuarzo fundido ALD

Como fabricante y proveedor profesional de productos de pedestal de cuarzo fundido ALD en China, el pedestal de cuarzo fundido ALD de VeTek Semiconductor está diseñado específicamente para su uso en deposición de capa atómica (ALD), deposición química de vapor a baja presión (LPCVD), así como en procesos de obleas de difusión, lo que garantiza Deposición uniforme de películas delgadas sobre las superficies de las obleas. Bienvenido a sus consultas adicionales.

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Descripción del Producto

El pedestal de cuarzo fundido ALD de VeTek Semiconductor desempeña un papel clave en el proceso de fabricación de semiconductores como estructura de soporte para elbarco de cuarzo, que se utiliza para sujetar eloblea. El pedestal de cuarzo fundido ayuda a lograr una deposición uniforme de la película manteniendo una temperatura estable, lo que afecta directamente el rendimiento y la confiabilidad de los dispositivos semiconductores. Además, Quartz Pedestal garantiza una distribución uniforme del calor y la luz en la cámara de proceso, mejorando así la calidad general del proceso de deposición.

ALD fused silica susceptor is used to support the quartz boat on which the wafer is placed

Ventajas del material del pedestal de cuarzo fundido ALD

Resistencia a altas temperaturas: El punto de reblandecimiento del pedestal de cuarzo fundido es tan alto como aproximadamente 1730 °C y puede soportar un funcionamiento a alta temperatura de 1100 °C a 1250 °C durante mucho tiempo y puede exponerse a ambientes con temperaturas extremas de hasta 1450 °C. por un corto tiempo.

Excelente resistencia a la corrosión: El cuarzo fundido es químicamente altamente inerte a casi todos los ácidos excepto al ácido fluorhídrico. Su resistencia a los ácidos es 30 veces mayor que la de la cerámica y 150 veces mayor que la del acero inoxidable. El cuarzo fundido es químicamente incomparable a altas temperaturas, lo que lo convierte en un material ideal para procesos químicos complejos.

Estabilidad térmica: Una característica clave del material del pedestal de cuarzo fundido es su coeficiente de expansión térmica extremadamente bajo. Esto significa que puede soportar fácilmente fluctuaciones dramáticas de temperatura sin agrietarse. Por ejemplo, el cuarzo de sílice fundido se puede calentar rápidamente a 1100 °C y sumergir directamente en agua fría sin sufrir daños, una característica importante en condiciones de fabricación de alto estrés.

Riguroso proceso de fabricación: El proceso de producción de pedestales de sílice fundida cumple estrictamente con altos estándares de calidad. El proceso de producción utiliza procesos de conformado y soldadura en caliente, que normalmente se completan en un entorno de sala blanca de clase 10.000. Luego, el pedestal de vidrio de cuarzo fundido se limpia minuciosamente con agua ultrapura (18 MΩ) para garantizar la pureza del producto y un rendimiento óptimo. Cada producto terminado se inspecciona, limpia y empaqueta rigurosamente en una sala limpia de clase 1000 o superior para cumplir con los altos estándares de la industria de semiconductores.

Material de cuarzo de sílice opaco de alta pureza

El pedestal de cuarzo fundido VeTeksemi ALD utiliza material de cuarzo opaco de alta pureza para aislar eficazmente el calor y la luz. Sus excelentes propiedades de protección contra el calor y la luz le permiten mantener una distribución uniforme de la temperatura en la cámara de proceso, asegurando la uniformidad y consistencia de la finadeposición de películaen la superficie de la oblea.

Campos de aplicación

Los pedestales de cuarzo fundido se utilizan ampliamente en muchos campos de la industria de los semiconductores debido a su excelente rendimiento. En elproceso de deposición de capa atómica (ALD), permite un control preciso del crecimiento de la película y garantiza el avance de los dispositivos semiconductores. En elProceso de deposición química de vapor a baja presión (LPCVD), la estabilidad térmica y la capacidad de protección contra la luz del pedestal de cuarzo de alta pureza brindan garantías para la deposición uniforme de películas delgadas, mejorando así el rendimiento y el rendimiento del dispositivo.

Además, en el proceso de difusión de obleas, la resistencia a altas temperaturas y a la corrosión química del pedestal de cuarzo fundido garantizan la confiabilidad y consistencia del proceso de dopaje del material semiconductor. Estos procesos clave determinan el rendimiento eléctrico de los dispositivos semiconductores, y los materiales de cuarzo fundido de alta calidad desempeñan un papel indispensable para lograr los mejores resultados de estos procesos.

Tiendas de pedestales de cuarzo fundido ALD de VeTek Semiconductor:

Fused Quartz Pedestal shops